简介：原子层沉积系统是一种先进的材料制备技术，用于科研和工业领域。该系统通过将物质以单原子层的形式逐层沉积在基底上，实现材料的精确控制和优化。与传统的物理气相沉积和化学气相沉积技术相比，原子层沉积系统具有更高的沉积精度和广泛的材料选择范围。
主要功能包括：热ALD沉积氧化物、氮化物、贵金属等薄膜材料，具备未来等离子体增强ALD、Loadlock单元扩展功能。其技术优势体现在高度均匀性、精确控制、多样性和低损伤性等方面。在电子器件、光学器件、能源、生物医学和环境科学等领域展现出广泛的应用潜力。
功能特点：
高度均匀性：能在大面积基底上实现高均匀性的薄膜沉积，对制造高性能电子器件、光电器件等至关重要。
精确控制：能以单原子层的精度控制薄膜厚度，实现材料性能的精确调控。
多样性：可使用多种前驱体，制备出各种类型的材料，包括金属、氧化物、氮化物。
低损伤性：过程中基底温度较低，有效降低热损伤，提高材料性能。
